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发明名称
投影光学系统及图案描绘装置
摘要
本发明之投影光学系统6具备:第1镜构件61,其为弯片形透镜612,此透镜形成有以基准点P1为中心的凹面镜611,作为背面镜;以及第2镜构件62,其为弯月形透镜622,此透镜在基准点P1与第1镜构件61间,形成大致以基准点P1为中心的凸面镜621,作为背面镜。来自物体侧的光平行于中心轴J1而射入第1镜构件61,于凹面镜611、凸面镜621、凹面镜611被反射,平行于中心轴J1地导出而形成像。藉此,于凹面镜与凸面镜间反射三次的投影光学系统6中,可以弯月形透镜612、622抑制像差。
申请公布号
TW200604720
申请公布日期
2006.02.01
申请号
TW094112013
申请日期
2005.04.15
申请人
大斯克琳制造股份有限公司
发明人
小八木康幸
分类号
G03B3/00;G02B17/00
主分类号
G03B3/00
代理机构
代理人
赖经臣;宿希成
主权项
地址
日本
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