发明名称 投影光学系统及图案描绘装置
摘要 本发明之投影光学系统6具备:第1镜构件61,其为弯片形透镜612,此透镜形成有以基准点P1为中心的凹面镜611,作为背面镜;以及第2镜构件62,其为弯月形透镜622,此透镜在基准点P1与第1镜构件61间,形成大致以基准点P1为中心的凸面镜621,作为背面镜。来自物体侧的光平行于中心轴J1而射入第1镜构件61,于凹面镜611、凸面镜621、凹面镜611被反射,平行于中心轴J1地导出而形成像。藉此,于凹面镜与凸面镜间反射三次的投影光学系统6中,可以弯月形透镜612、622抑制像差。
申请公布号 TW200604720 申请公布日期 2006.02.01
申请号 TW094112013 申请日期 2005.04.15
申请人 大斯克琳制造股份有限公司 发明人 小八木康幸
分类号 G03B3/00;G02B17/00 主分类号 G03B3/00
代理机构 代理人 赖经臣;宿希成
主权项
地址 日本