发明名称 具有受控制散射、透过特性的光学积层体
摘要 〔本发明之课题〕 在提供一种光学积层体,具有在大于传统之广视角可提供更明亮图像之选择性光扩散性、以及集光性。〔本发明之解决手段〕 一种光学积层体,其特征为:由使光散射透过之折射率不同的二相所构成,且折射率较大之一相含有光扩散薄膜、及光散射层,前述光扩散薄膜含有具沿薄膜厚度方向延伸之柱状构造的多数区域,前述光散射层则可使光散射透过。可以形成一种光学薄膜,将光散射层当做粘着剂层和光扩散薄膜同时实施积层。
申请公布号 TWI248523 申请公布日期 2006.02.01
申请号 TW091120714 申请日期 2002.09.11
申请人 AZ电子材料股份有限公司 发明人 原田隆正
分类号 G02B5/02;G02F1/1335 主分类号 G02B5/02
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼;何秋远 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项 1.一种光学积层体,其特征为包含有: 光扩散薄膜,由使光散射透过之折射率不同的二相 所构成,且折射率较大之一相为含有具备沿薄膜厚 度方向延伸之柱状构造的多数区域;及 可使光散射透过之光散射层。 2.如申请专利范围第1项之光学积层体,其中 前述沿光扩散薄膜厚度方向延伸之柱状构造的轴 线为互相平行,且该轴线为薄膜之法线方向。 3.如申请专利范围第1或2项之光学积层体,其中 前述光扩散薄膜之不同折射率的至少二相之折射 率差在0.005-0.2之范围内。 4.如申请专利范围第1项之光学积层体,其中 前述光扩散薄膜系由具有感放射线性之高分子材 料所制成。 5.如申请专利范围第1项之光学积层体,其中 前述光散射层系含有基体树脂(matrix resin)及填料 。 6.如申请专利范围第5项之光学积层体,其中 前述光散射层之基体树脂及填料之折射率差为0.05 -0.5。 7.如申请专利范围第5项之光学积层体,其中 前述光散射层之填料为球状。 8.如申请专利范围第5项之光学积层体,其中 前述光散射层之前述基体树脂为粘着剂。 9.如申请专利范围第8项之光学积层体,其中 前述光散射层为含有粘着剂之前述基体树脂,积层 之前述光散射层会接触前述光扩散薄膜。 10.如申请专利范围第1项之光学积层体,其中 前述光扩散薄膜及前述光散射层以粘着剂贴合。 11.如申请专利范围第1项之光学积层体,其中 前述光学积层体为前述光扩散薄膜及前述光散射 层为一体化之光学薄膜。 12.如申请专利范围第1项之光学积层体,其中 前述光扩散薄膜及前述光散射层间存在1或2以上 之其他层及/或薄膜。 图式简单说明: 第1(a)、(b)图系高分子薄膜中具有圆柱构造之高折 射率区域之光扩散薄膜剖面图及垂直入射光之透 过散射特性图。 第2(a)、(b)图系高分子薄膜中充填着填料之光散射 层剖面图及垂直入射光之透过散射特性图。 第3(a)图系光学薄膜之剖面图,光学薄膜具有光扩 散薄膜、及光散射粘着剂层,前述光扩散薄膜含有 具沿薄膜厚度方向延伸之柱状构造的多数区域,前 述光散射粘着剂层则可使光散射透过。 第3(b)图系光学薄膜之剖面图,光学薄膜具有光扩 散薄膜、及非粘着性光散射层,前述光扩散薄膜含 有具沿薄膜厚度方向延伸之柱状构造的多数区域, 前述非粘着性光散射层则可使光散射透过。 第3(c)图则系第3(a)、(b)图之光学薄膜所具有之、 和第1(b)图及第2(b)图所示相同的透过光强度。 第4图系液晶显示装置之模式剖面图。 第5图系其他液晶显示装置之模式剖面图。 第6图系行动电话使用光学薄膜实例之正面图及部 份侧面图。 第7图系实施例中之感光性聚合物的曝光方法说明 图。 第8图系实施例中之光学薄膜之反射散射特性的评 价方法说明图。 第9(a)、9(b)图系实施例中之光学薄膜之反射散射 特性图。 第10(a)、10(b)图系比较例中之光学薄膜之反射散射 特性图。
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