发明名称 多层氧化可一次编程器件
摘要 本发明公开了一种多层氧化可一次编程器件,在晶体管和电容侧分别采用不同的栅氧化厚度。本发明既可以提高电容耦合效率,又会大大减小芯片的面积。本发明适用于半导体集成电路及分离元器件。
申请公布号 CN1728392A 申请公布日期 2006.02.01
申请号 CN200410053295.5 申请日期 2004.07.29
申请人 上海华虹NEC电子有限公司 发明人 姚泽强;徐向明
分类号 H01L27/115(2006.01);H01L21/82(2006.01);G11C16/02(2006.01) 主分类号 H01L27/115(2006.01)
代理机构 上海浦一知识产权代理有限公司 代理人 丁纪铁
主权项 1.一种多层氧化可一次编程器件,其特征在于:在OTP器件的晶体管侧和电容侧分别采用两种不同厚度的栅氧化膜,在晶体管侧采用厚栅氧区,在电容侧采用薄栅氧区。
地址 201206上海市浦东川桥路1188号