| 发明名称 |
REMOVAL OF POST-ETCH RESIDUES IN SEMICONDUCTOR PROCESSING |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
EP1620882(A1) |
申请公布日期 |
2006.02.01 |
| 申请号 |
EP20040760679 |
申请日期 |
2004.05.03 |
| 申请人 |
EKC TECHNOLOGY, INC. |
发明人 |
CERNAT, MIHAELA;LEE, SHIHYING |
| 分类号 |
C11D1/00;C11D7/08;C11D7/32;C11D7/50;C11D11/00;C23F11/14;C23F11/167;C23F11/173;C23G1/06;H01L21/02;H01L21/306;H01L21/311;(IPC1-7):H01L21/306;C09K3/18 |
主分类号 |
C11D1/00 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
