发明名称 Method for forming a copper layer over a semiconductor wafer
摘要
申请公布号 EP1050902(B1) 申请公布日期 2006.02.01
申请号 EP20000109329 申请日期 2000.05.02
申请人 FREESCALE SEMICONDUCTOR, INC. 发明人 SIMPSON, CINDY REIDSEMA;MIKKOLA, ROBERT DOUGLAS;HERRICK, MATTHEW T.;BAKER, BRETT CAROLINE;PENA, DAVID MORALEZ;ACOUSTA, EDWARD;CHOWDHURY, RINA;AZRAK, MARIJEAN;GOLDBERG, CINDY KAY;ISLAM, MOHAMMED RABIUL
分类号 C25D5/18;H01L21/288;C25D7/12;H01L21/3205;H01L21/768;H01L23/52 主分类号 C25D5/18
代理机构 代理人
主权项
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