| 发明名称 |
Specification determining method projection optical system making method and adjusting method exposure apparatus and making method thereof and computer system |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
SG118115(A1) |
申请公布日期 |
2006.01.27 |
| 申请号 |
SG20020000765 |
申请日期 |
2002.02.14 |
| 申请人 |
NIKON CORPORATION |
发明人 |
MASATO HAMATANI;TOSHIO TSUKAKOSHI |
| 分类号 |
H01L21/027;G03F7/20;(IPC1-7):G03F7/20 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
