| 发明名称 |
Procedure for etching of materials at the surface with focussed electron beam induced chemical reactions at said surface |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG118187(A1) |
申请公布日期 |
2006.01.27 |
| 申请号 |
SG20030002500 |
申请日期 |
2003.04.28 |
| 申请人 |
NAWOTEC GMBH;UNIVERSITY OF MARYLAND |
发明人 |
HANS WILFRIED PETER KOOPS;KLAUS EDINGER |
| 分类号 |
C23F4/00;G03F1/00;H01J37/305;H01L21/302;H01L21/311 |
主分类号 |
C23F4/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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