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发明名称 PLASMA-ETCH CONTROLLING SYSTEM INCLUDING SEERS(SSELF-EXITED ELECTRON RESONANCE SPECTROSCOPY) AND METHOD OF CONTROLLING PLASMA-ETCH PROCESS
摘要
申请公布号 KR20060008096(A) 申请公布日期 2006.01.26
申请号 KR20040057766 申请日期 2004.07.23
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 BAEK, KYE HYUN;MIN, GYUNG JIN;KANG, CHANG JIN
分类号 H01L21/3065 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
主权项
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