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发明名称 PHOTO-CURABLE ETCHING-RESISTANT COMPOSITION FOR SHADOW MASK
摘要
申请公布号 KR100546492(B1) 申请公布日期 2006.01.26
申请号 KR20010049631 申请日期 2001.08.17
申请人 发明人
分类号 G03F7/004 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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