纳米级设计结构、其制造方法及设备以及在掩模修复、增强和制造上的应用

摘要

使用直接写入纳米构图修复和制造光掩模，包括：使用扫描探针显微镜尖端以淀积包含溶胶－凝胶和金属墨汁的墨汁材料。添加方法能够与减去方法相结合。可以使用纳米结构填充孔。可以控制填充孔的纳米结构的高度，而不会损失对纳米结构的横向尺寸的控制。可以使用和制造玻璃上的铬掩模，以及更先进的掩模，包括用于纳米压印纳米构图的掩模。

主权项

1.一种在半导体工业中添加掩模修复的方法，其能够精确控制横向尺寸和高度，该方法包括：从尖端通过直接写入纳米构图将材料淀积到有缺陷的掩模，用以进行添加修复。