| 发明名称 | 铂化学机械抛光用的溶液 | ||
| 摘要 | 本发明是揭示一种铂化学机械抛光用的溶液。再者，本发明是揭示一种形成Pt图样的方法，其是利用所揭示的Pt-CMP溶液，此溶液含有碱水溶液与氧化剂，其是改良Pt的抛光速率与抛光特性，该Pt是形成金属电容器的下方的电极。 | ||
| 申请公布号 | CN1238560C | 申请公布日期 | 2006.01.25 |
| 申请号 | CN03148693.2 | 申请日期 | 2003.06.19 |
| 申请人 | 海力士半导体有限公司 | 发明人 | 李宇镇 |
| 分类号 | C23F1/40(2006.01);C23F3/04(2006.01);C09K3/14(2006.01);H01L21/28(2006.01);H01L21/302(2006.01) | 主分类号 | C23F1/40(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 张平元;赵仁临 |
| 主权项 | 1.一种铂用的化学机械抛光溶液，其包含：含有选自氢氧化钠、氢氧化钾、四甲基氢氧化铵、四烷基氢氧化铵及其混合物的碱金属化合物的碱水溶液；与选自H2O2、Fe(NO3)2和其混合物的氧化剂；其中碱水溶液的浓度范围从0.01M至10M，氧化剂是以碱水溶液的1体积％至50体积％范围的浓度存在。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||