发明名称 抛光状态监测装置和抛光装置以及方法
摘要 抛光状态监测装置测量工件之被抛光的表面的特征值,以确定抛光结束点的定时。抛光状态监测装置包括:发光单元,用于将来自光源的光施加到被抛光的工件的表面;光接收单元,用于接收来自工件之表面的反射光;分光镜单元,用于将由光接收单元接收的反射光分开成具有各自波长的多条光线,以及多个光接收元件,用于累积检测的光线作为电信息。抛光状态检测设备还包括:光谱数据产生器,用于读取通过光接收元件累积的电信息以及产生反射光的光谱数据;以及处理器,用于基于由光谱数据产生器产生的光谱数据来计算工件之表面上预定的特征值。
申请公布号 CN1726116A 申请公布日期 2006.01.25
申请号 CN200380101631.2 申请日期 2003.10.15
申请人 株式会社荏原制作所;株式会社岛津制作所 发明人 小林洋一;中井俊辅;辻仁志;佃康郎;石本润喜;新屋和也
分类号 B24B49/12(2006.01) 主分类号 B24B49/12(2006.01)
代理机构 永新专利商标代理有限公司 代理人 王英
主权项 1、一种抛光状态监测装置,包括:光源;发光单元,设置在具有抛光面的抛光台中,用于将光线从所述光源施加到工件之被抛光的表面;光接收单元,设置在所述抛光台中,用于接收来自所述工件之所述表面的反射光;分光镜单元,用于将由所述光接收单元接收的反射光分开成具有各自的波长的多条光线;多个光接收元件,用于检测由所述分光镜单元分开的多条光线,以及累积检测的多条光线作为电信息;光谱数据产生器,用于读取由所述多个光接收元件累积的电信息,以及产生所述反射光的光谱数据;控制单元,用于控制所述多个光接收元件,以在所述抛光台旋转的同时,在预定的定时执行采样处理;以及处理器,用于基于由所述光谱数据产生器产生的光谱数据来计算所述工件之所述表面上的预定的特征值。
地址 日本东京