| 发明名称 | 转换被测晶圆缺陷坐标 | ||
| 摘要 | 描述了用于利用CAD数据将检出的晶圆缺陷坐标转换到光罩坐标的系统和方法。提供晶圆检查图像并确定晶圆中潜在缺陷的坐标。然后晶圆检查图像被转换成预定图像格式。因此使用被测器件的CAD数据产生第二图像，它具有同样的预定图像格式。然后将CAD导出图像和晶圆导出图像进行对准，并把晶圆中潜在缺陷的坐标转换成CAD坐标。然后在晶圆光罩上使用CAD坐标，对检出晶圆缺陷的相应光罩缺陷进行定位。 | ||
| 申请公布号 | CN1726389A | 申请公布日期 | 2006.01.25 |
| 申请号 | CN200380106432.0 | 申请日期 | 2003.10.23 |
| 申请人 | 飞思卡尔半导体公司 | 发明人 | 基思·布兰科尼;大卫·M·施劳布 |
| 分类号 | G01N21/956(2006.01);G01N21/95(2006.01);G06T7/00(2006.01) | 主分类号 | G01N21/956(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 李德山 |
| 主权项 | 1.一种对缺陷进行定位的方法，包括：提供被测器件的检查图像，包含潜在缺陷的检出坐标；将检查图像转换成预定图像格式的第一图像；提供被测器件的CAD数据；将CAD数据转换成预定图像格式的第二图像；将第一和第二图像对准；将潜在缺陷的检出坐标转换成CAD坐标；以及根据CAD坐标的函数定位缺陷。 | ||
| 地址 | 美国得克萨斯 | ||