发明名称 含肽二氧化硅催化剂的生产方法
摘要 一种生产含钛二氧化硅催化剂的方法,该催化剂满足条件(1)至(3):(1)平均孔径为10或更多;(2)90%或更多的总孔体积具有5-200的孔径;以及(3)比孔容为0.2cm<SUP>3</SUP>/g或更多,该方法包含下列第一到第四个步骤:第一步是在液态下通过混合和搅拌一种二氧化硅源、一种钛源和一种作为模板的季铵离子,来获得一种含催化剂成分和一种模板的固体的步骤;第二步是通过溶剂萃取从第一步获得的固体中去除该模板的步骤;第三步是用一种对用在下列第四步中的一种甲硅烷基化剂完全惰性的溶剂,来取代用于萃取并在去除模板后包含在该固体中的溶剂的步骤;以及第四步是通过对第三步获得的固体进行甲硅烷基化来获得一种甲硅烷基化催化剂的步骤。
申请公布号 CN1726081A 申请公布日期 2006.01.25
申请号 CN200380106421.2 申请日期 2003.12.16
申请人 住友化学株式会社 发明人 山本纯
分类号 B01J29/89(2006.01);B01J35/10(2006.01);C07D301/19(2006.01);C07D303/04(2006.01) 主分类号 B01J29/89(2006.01)
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 张轶东;邹雪梅
主权项 1.一种生产含钛二氧化硅催化剂的方法,该催化剂满足下列(1)至(3)的所有条件:(1)平均孔径为10或更多;(2)90%或更多的总孔体积具有5-200的孔径;以及(3)比孔容为0.2cm3/g或更多,该方法包含下列第一到第四个步骤:第一步:在液态下通过混合和搅拌一种二氧化硅源、一种钛源和一种作为模板的季铵离子,来获得一种含催化剂成分和一种模板的固体的步骤;第二步:通过溶剂萃取从第一步获得的固体中去除该模板的步骤;第三步:用一种对用在下列第四步中的一种甲硅烷基化剂完全惰性的溶剂,来取代用于萃取并在去除模板后包含在该固体中的溶剂的步骤;以及第四步:通过对第三步获得的固体进行甲硅烷基化来获得一种甲硅烷基化催化剂的步骤。
地址 日本东京都