| 发明名称 | 基板处理设备及使用其的基板处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种基板处理设备及使用其的基板处理方法，该基板处理设备包括处理溶液分配器、传送单元和控制器，处理溶液分配器在基板上提供处理溶液，传送单元传送基板，而控制器控制传送单元使得基板以倾斜状态被传送。相对于平行于基板的传送方向延伸的轴旋转基板使其向侧向倾斜。该旋转可以以交替方式在两个方向进行。该设备可以不考虑基板的尺寸而用于均匀地处理基板。 | ||
| 申请公布号 | CN1725074A | 申请公布日期 | 2006.01.25 |
| 申请号 | CN200510083347.8 | 申请日期 | 2005.07.12 |
| 申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 李荣植;金基铉;赵弘济;林官泽;李在敬 |
| 分类号 | G02F1/1333(2006.01);B05B3/00(2006.01) | 主分类号 | G02F1/1333(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 李晓舒;魏晓刚 |
| 主权项 | 1.一种基板处理设备，包括：向基板上供应处理溶液的处理溶液分配器；传送基板的传送单元；以及控制所述传送单元的控制器，使得所述基板在倾斜状态下被传送，所述倾斜状态通过相对于平行于所述基板的传送方向延伸的轴进行旋转而实现，其中所述旋转以交替方式在两个方向进行。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||