发明名称 A Manufacturing Method of Layer Insulation Film of Semiconductor Element
摘要
申请公布号 KR100546804(B1) 申请公布日期 2006.01.25
申请号 KR20030100607 申请日期 2003.12.30
申请人 发明人
分类号 H01L21/31 主分类号 H01L21/31
代理机构 代理人
主权项
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