| 发明名称 | 利用衍射特征的分析对焦点中心的判断 | ||
| 摘要 | 本发明提供通过利用多个衍射光栅(20)进行衍射特征差值分析而在光刻晶片(10)中进行判断的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN1238687C | 申请公布日期 | 2006.01.25 |
| 申请号 | CN01817372.1 | 申请日期 | 2001.09.05 |
| 申请人 | 安格盛光电科技公司 | 发明人 | 迈克尔·尤金·利陶;克里斯托弗·J·雷蒙德 |
| 分类号 | G01B9/00(2006.01) | 主分类号 | G01B9/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 朱进桂 |
| 主权项 | 1.一种用于测量有关光刻装置的输出特性的参数的方法，包括下列步骤：提供一个衬底，衬底上包括多个通过利用光刻装置的光刻法形成的衍射光栅，衍射光栅包括多个间隔元件；通过基于辐射源的工具测量多个衍射光栅中的至少三个的衍射特征；和确定衍射特征之间的差值，从而确定所述光刻装置的所需参数。 | ||
| 地址 | 美国俄勒冈州 | ||