| 主权项 |
1.一种显示装置,系具有反射区域的显示装置,具有 : 形成于与基板上之前述反射区域相对应之区域中, 且具有作为反射膜之功能之由钼或铝所构成的反 射材料层; 形成于前述反射材料层上之绝缘膜;以及 形成于前述绝缘膜上之透明电极,其中, 前述反射材料层系由与具有不同于作为前述反射 膜之功能的预定功能的层相同的层所形成。 2.如申请专利范围第1项之显示装置,其中,前述反 射材料层系具有作为前述反射膜之功能,以及不同 于作为前述反射膜之功能的预定功能等两个功能 。 3.如申请专利范围第1项之显示装置,其中,复具有: 形成于前述绝缘膜与前述基板之间,且具有一对源 极/汲极区域及闸极的薄膜电晶体;以及 与前述一对源极/汲极区域相连接之源极/汲极电 极,而且 作为前述反射膜而发挥功能的反射材料层系由与 构成前述源极/汲极电极的层相同的层所形成。 4.如申请专利范围第1项之显示装置,其中,复包含 具有补助电容电极之补助电容,而且 作为前述反射膜而发挥功能的反射材料层系由与 构成前述补助电容电极之补助电容线的层相同的 层所形成。 5.如申请专利范围第1项之显示装置,其中,复包含 形成于前述绝缘膜与前述基板之间,且具有一对源 极/汲极区域及闸极的薄膜电晶体,而且 作为前述反射膜而发挥功能的反射材料层系由与 构成前述闸极的层相同的层所形成。 6.如申请专利范围第1项之显示装置,其中,复包含 形成于前述绝缘膜与前述基板之间的黑色矩阵薄 膜,而且 前述反射材料层系由与构成前述黑色矩阵薄膜的 层相同的层所形成。 7.如申请专利范围第1项至第6项中任一项之显示装 置,其中,除了前述反射区域之外,复包括未形成前 述反射材料层之透过区域。 8.一种显示装置之制造方法,系具有反射区域之显 示装置之制造方法,系具有: 在基板上形成具有不同于作为反射膜之功能的预 定功能的由钼或铝所构成之反射材料层之步骤; 以在与前述反射区域相对应的区域中形成的方式 而对前述反射材料层进行图案化之步骤; 于前述反射材料层上形成绝缘膜之步骤;以及 在前述绝缘膜上形成透明电极之步骤。 9.如申请专利范围第8项之显示装置之制造方法,其 中,复包含:于前述绝缘膜与前述基板之间,形成具 有一对源极/汲极区域及闸极之薄膜电晶体的步骤 , 形成前述反射材料层之步骤系包括:形成与前述一 对源极/汲极区域相连接之源极/汲极电极层之步 骤, 而对前述反射材料层进行图案化之步骤系包括:以 形成于与前述源极/汲极区域及前述反射区域相对 应之区域的方式,对于前述源极/汲极电极层中之 至少一个电极层进行图案化之步骤。 10.如申请专利范围第8项之显示装置之制造方法, 其中,复包含:形成具有补助电容电极之补助电容 的步骤, 形成前述反射材料层之步骤系包括:形成构成前述 补助电容电极之补助电容线之层的步骤, 而对前述反射材料层进行图案化之步骤系包括:以 形成于与前述反射区域相对应之区域的方式,对于 构成前述补助电容线之层进行图案化之步骤。 图式简单说明: 第1图系表示本发明之第1实施形态之半透过型液 晶显示装置(显示装置)之构造俯视图。 第2图系为第1图所示之第1实施形态之半透过型液 晶显示装置(显示装置)中沿着50-50线之剖视图。 第3图系用以说明本发明之第1实施形态之半透过 型液晶显示装置(显示装置)之制程剖视图。 第4图系用以说明本发明之第1实施形态之半透过 型液晶显示装置(显示装置)之制程剖视图。 第5图系用以说明本发明之第1实施形态之半透过 型液晶显示装置(显示装置)之制程剖视图。 第6图系用以说明本发明之第1实施形态之半透过 型液晶显示装置(显示装置)之制程剖视图。 第7图系用以说明本发明之第1实施形态之半透过 型液晶显示装置(显示装置)之制程剖视图。 第8图系表示本发明之第2实施形态之半透过型液 晶显示装置(显示装置)之构造俯视图。 第9图系为第8图所示之第2实施形态之半透过型液 晶显示装置(显示装置)中沿着60-60线之剖视图。 第10图系用以说明本发明之第2实施形态之半透过 型液晶显示装置(显示装置)之制程剖视图。 第11图系表示习知之半透过型液晶显示装置(显示 装置)之构造俯视图。 第12图系为第11图所示之习知之半透过型液晶显示 装置(显示装置)中沿着150-150线之剖视图。 第13图系用以说明习知之半透过型液晶显示装置( 显示装置)之制程剖视图。 第14图系用以说明习知之半透过型液晶显示装置( 显示装置)之制程剖视图。 第15图系用以说明习知之半透过型液晶显示装置( 显示装置)之制程剖视图。 |
