| 主权项 |
1.一种致动器,包含有: 一对磁轭,系隔着第1预定间隙而相对向者; 一磁铁,系固定于前述磁轭之至少一方者;及, 一托架,其与前述磁铁之间隔有一第2预定间隙而 将线圈保持于其中一端,且可绕着旋动轴之周围摇 动; 另前述托架装设有: 2个线圈安装臂,系呈相对向,且具有于相互之对向 面分别形成之段部以及由前述段部之基底面贯通 到上面之至少一个贯通孔,且该贯通孔在前述基底 面之孔尺寸大于前述上面之孔尺寸; 前述线圈,系配置于前述2个线圈安装臂之间;及 一保持构件,系用以固定前述线圈安装臂、前述贯 通孔、与前述线圈; 并于前述贯通孔充填树脂以作为前述保持构件, 其中,前述保持构件配置于前述线圈安装臂,并填 充于前述各贯通孔,且前述保持构件固定于前述托 架上, 且,前述保持构件系构成为前述段部之基底面与前 述保持构件之基底面实质上系在同一平面, 并且,前述段部形成于支持前述线圈之一对前述线 圈安装臂之各内侧面,且前述段部与前述各贯通孔 之间系以形成前述保持构件之树脂填充。 2.如申请专利范围第1项之致动器,其中前述保持构 件系树脂充填块。 3.如申请专利范围第1项之致动器,其中前述各个段 部系形成于前述2个线圈安装臂中之同一面上。 4.如申请专利范围第1项之致动器,其中前述贯通孔 系多数地形成于前述各个段部。 5.如申请专利范围第1项之致动器,其中平行于前述 贯通孔之前述基底面的截面尺寸系由前述基底面 向前述上面渐减。 6.如申请专利范围第1项之致动器,其中平行于前述 贯通孔之前述基底面的截面积系由前述基底面向 前述上面渐减。 7.如申请专利范围第1项之致动器,其中平行于前述 贯通孔之前述基底面的截面尺寸系由前述基底面 渐减到一预定距离,且由该预定距离到前述上面为 定値。 8.如申请专利范围第1项之致动器,其中平行于前述 贯通孔之前述基底面的截面积系由前述基底面渐 减到一预定距离,且由该预定距离到前述上面为定 値。 9.如申请专利范围第1项之致动器,其中前述贯通孔 系形成于前述线圈安装臂与前述段部之交接部分 。 10.如申请专利范围第2项之致动器,其中前述树脂 系热塑性树脂。 11.如申请专利范围第2项之致动器,其中前述树脂 系热固性树脂。 12.如申请专利范围第2项之致动器,其中前述树脂 系一种随着时间而固化之树脂。 图式简单说明: 第1图为在本发明之第1实施例中组入致动器之磁 性记录装置之透视图。 第2图为在第1图所示致动器中装配前之托架与线 圈之透视图。 第3图为同装配后之托架与线圈之透视图。 第4图为在第2图中圆A部之扩大图。 第5图为在第3图中Ⅴ-Ⅴ之截面图。 第6图为在第3图中Ⅵ~Ⅵ之截面图。 第7图为在本发明之第2实施例中相当于第1实施例 之第5图之截面图。 第8图为习知之致动器之分解透视图。 第9图为在第8图所示致动器之要部平面图。 第10图为在第9图中Ⅹ~Ⅹ之截面图。 第11图为在习知之致动器之其他例中之要部的装 配前之透视图。 第12图为同装配后之透视图。 第13图为在第12图中之ⅩⅢ~ⅩⅢ之截面图。 第14图为在第12图中之ⅩⅣ~ⅩⅣ之截面图。 |
