发明名称 影像显示装置
摘要 影像显示装置之前面基板具有萤光面(6)、具有互相隔开之复数分割区域(7a)且重叠配设于萤光面之金属敷层、用以对金属敷层施加电压之共用电极(24)、以及用以实施共用电极及金属敷层之复数分割区域之电性连接之复数连接电阻(30)。和前面基板为相对配置之背面基板(1)上,配置着朝萤光面放射电子之复数电子放射元件。共用电极上覆盖着片电阻高于连接电阻之覆膜构件(32)。
申请公布号 TWI248102 申请公布日期 2006.01.21
申请号 TW093117758 申请日期 2004.06.18
申请人 东芝股份有限公司 发明人 原口雄次;常味政贵;伊吹裕昭;村田弘贵
分类号 H01J1/00 主分类号 H01J1/00
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种影像显示装置,其特征为具有: 前面基板,由含有萤光体层及遮光层之萤光面、重 叠配设于该萤光面且互相隔开之复数分割区域之 金属敷层、用以对上述金属敷层施加电压之共用 电极、用以连接上述共用电极及上述金属敷层之 复数分割区域之连接电阻、及覆盖于上述共用电 极上且片电阻高于上述连接电阻之片电阻之覆膜 所构成;及 背面基板,和上述前面基板为相对配置之配置着用 以对上述萤光面放射电子之复数电子放射元件。 2.如申请专利范围第1项之影像显示装置,其中 上述前面基板之覆膜系覆盖上述共用电极及连接 电阻。 3.如申请专利范围第1及2项之其中任一项之影像显 示装置,其中 具有配置于上述背面基板上而用以驱动上述电子 放射元件之复数配线、及覆盖位于上述配线内之 和上述共用电极相对之区域之配线之覆膜,覆盖上 述配线之覆膜具有1E7/以上之片电阻。 4.如申请专利范围第3项之影像显示装置,其中 上述背面基板之覆膜系覆盖位于上述配线内之和 上述共用电极及连接电阻相对之区域之配线。 5.如申请专利范围第1及2项之其中任一项之影像显 示装置,其中 上述金属敷层之复数分割区域系以隔着分别为细 长条状之间隙之方式并列,各分割区域之一端经由 上述连接电阻连接至上述共用电极。 6.一种影像显示装置,其特征为具有: 前面基板,由含有萤光体层及遮光层之萤光面、重 叠配设于该萤光面且具有互相隔开之复数分割区 域之金属敷层、用以对上述金属敷层施加电压之 共用电极、及用以连接上述共用电极及上述金属 敷层之复数分割区域之连接电阻所构成;及 背面基板,和上述前面基板为相对配置,由用以对 上述萤光面放射电子之复数电子放射元件、连接 于上述电子放射元件之复数配线、及覆盖位于上 述配线内之上述共用电极之相对区域之配线且具 有1E7 /以上之片电阻之覆膜。 7.如申请专利范围第6项之影像显示装置,其中 上述覆膜系覆盖位于上述配线内之和上述共用电 极及连接电阻相对之区域之配线。 图式简单说明: 第1图系本发明实施形态之FED之斜视图。 第2图系第1图之上述FED之Ⅱ-Ⅱ线剖面图。 第3图系上述FED之前面基板之萤光面及金属敷层之 平面图。 第4图系第3图之前面基板之Ⅳ-Ⅳ线剖面图。 第5图系第1图之上述FED之Ⅴ-Ⅴ线剖面图。 第6图系本发明第2实施形态之FED之前面基板之萤 光面及金属敷层之平面图。 第7图系本发明第2实施形态之FED之剖面图。 第8图系本岭明第3实施形态之FED之剖面图。 第9图系本发明其他实施形态之FED之前面基板之平 面图。
地址 日本