发明名称 光强度分布调整装置
摘要 本创作系关于一种光强度分布调整装置,尤指一种适用于一光学检测系统且可产生「集中」与「扩散」两种不同光强度分布的光强度分布调整装置,其包括:一排列有复数个菲涅耳透镜之光学透镜层及一位于光学透镜层表面之光开关层,其具有复数个具有一透明状态及一雾化状态的光调制单元。当光调制单元处于透明状态时,通过光强度分布调整装置之光线的光强度分布较为集中;当光调制单元处于雾化状态时,通过光强度分布调整装置之光线的光强度分布则较为扩散。因此,本创作之光强度分布调整装置可产生具有「集中」与「扩散」两种光强度分布状况。
申请公布号 TWM286363 申请公布日期 2006.01.21
申请号 TW094217231 申请日期 2005.10.05
申请人 宏濑科技股份有限公司;叶馨雯 台南市东区大同路2段135号 发明人 陈宏力;叶馨雯
分类号 G01N21/88 主分类号 G01N21/88
代理机构 代理人 吴冠赐 台北市松山区敦化北路102号9楼;苏建太 台北市松山区敦化北路102号9楼;林志鸿 台北市松山区敦化北路102号9楼
主权项 1.一种光强度分布调整装置,系应用于一光学检测 系统以检测一待测物之缺陷,包括: 一光学透镜层,该光学透镜层排列有复数个菲涅耳 透镜;以及 一位于该光学透镜层表面之光开关层,该光开关层 具有复数个光调制单元; 其中,该等光调制单元具有一透明状态及一雾化状 态;当该等光调制单元处于该透明状态时,通过该 光强度分布调整装置之光线的光强度分布较为集 中;当该等光调制单元处于该雾化状态时,通过该 光强度分布调整装置的之光线的光强度分布较为 扩散。 2.如申请专利范围第1项所述之光强度分布调整装 置,其中该光学检测系统包括: 一光源装置,系提供检测所需之光源,其具有一发 光体及一颜色变换单元,且该光源装置藉由使该发 光体所发射出之光线穿透该颜色变换单元的方式, 提供各种颜色的光源; 一导光装置,其具有一与该光源装置连接之导光元 件及一位于一相对于该导光元件一端之位置的导 光镜片,该导光镜片系将该光源装置所提供之光源 转换为一面光源; 一光反射装置,系反射由导光镜片射出之光线,使 该面光源之光线照射于该光强度分布调整装置;以 及 一控制装置,系控制该光源装置所提供之光源的颜 色及强度。 3.如申请专利范围第2项所述之光强度分布调整装 置,其中该待测物系承载于一承载装置,且该承载 装置具有至少一电连接于该控制器的光强度感测 装置。 4.如申请专利范围第2项所述之光强度分布调整装 置,其中该光开关层系电连接于该控制器,以控制 该等光调制单元之状态。 5.如申请专利范围第1项所述之光强度分布调整装 置,其中该等光调制单元系分别填充聚合物分散液 晶于该等调制单元之单位腔体中而成。 6.如申请专利范围第2项所述之光强度分布调整装 置,其中该颜色变换单元系为一具有复数个滤光片 之转盘,且该等滤光片系分布于该转盘之盘面。 7.如申请专利范围第6项所述之光强度分布调整装 置,其中该颜色变换单元系与一电连接于该控制器 之驱动装置相连接,且该驱动装置驱使该转盘转动 至一事先设定的位置。 8.如申请专利范围第2项所述之光强度分布调整装 置,其中该发光体系为一灯泡。 9.如申请专利范围第2项所述之光强度分布调整装 置,其中该导光元件系为一光纤。 10.如申请专利范围第1项所述之光强度分布调整装 置,其中该光强度分布调整装置系为平板状。 11.如申请专利范围第1项所述之光强度分布调整装 置,其中该待测物系为一光学玻璃。 图式简单说明: 图1系习知之应用于大面积玻璃基板表面瑕疵目视 检测之光学检测系统的示意图。 图2A及图2B系习知第一种「双光源灯箱」分别于提 供黄光及白光时的结构示意图。 图3A及图3B系习知第二种「双光源灯箱」分别于提 供黄光及白光时的结构示意图。 图4系本创作一较佳实施例之光强度分布调整装置 的示意图。 图5系一应用本创作一较佳实施例之光强度分布调 整装置之光学检测系统的示意图。
地址 台北县土城市中央路3段76巷49弄6之1号6楼