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发明名称 Precursor chemistries for chemical vapor deposition of ruthenium and ruthenium oxide
摘要
申请公布号 KR100543360(B1) 申请公布日期 2006.01.20
申请号 KR20017002534 申请日期 2001.02.27
申请人 发明人
分类号 C23C16/22 主分类号 C23C16/22
代理机构 代理人
主权项
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