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发明名称
CERIUM OXIDE POLISHING PARTICLES, SLURRY FOR CMP, METHODS FOR PREPARING THE SAME, AND METHODS FOR POLISHING SUBSTRATE
摘要
申请公布号
KR20060006194(A)
申请公布日期
2006.01.19
申请号
KR20040055095
申请日期
2004.07.15
申请人
SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.
发明人
LEE, DONG JUN;SO, JAE HYUN;KIM, NAM SOO;KANG, KYOUNG MOON
分类号
C09K3/14
主分类号
C09K3/14
代理机构
代理人
主权项
地址
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