| 发明名称 | 制造反射式隐藏镜面及其它微机电元件的间隙壁的方法 | ||
| 摘要 | 本发明是有关于一种制造反射式隐藏镜面及其它微机电元件的间隙壁的方法。一种用于制造微机电系统，例如反射式隐藏镜面的制造方法，包括下列步骤：形成I型镜面结构；形成间隙壁层于I型镜面结构上；以及图案化间隙壁层，以沿着I型镜面结构的一侧形成至少一间隙壁。一微机电系统，至少包含：一基材；一I型镜面结构形成于该基材上；以及沿着该I型镜面结构的一侧设有至少一间隙壁。本发明提供了一种用于制造反射式隐藏镜面及其它微机电系统元件的坚固耐用的间隙壁制程，并且避免了镜桥的产生。 | ||
| 申请公布号 | CN1721319A | 申请公布日期 | 2006.01.18 |
| 申请号 | CN200510077540.0 | 申请日期 | 2005.06.17 |
| 申请人 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 发明人 | 吴善华;陈斐筠;王薇雅;刘鸿兴;潘升良 |
| 分类号 | B81C1/00(2006.01);B81B5/00(2006.01) | 主分类号 | B81C1/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 寿宁;张华辉 |
| 主权项 | 1、一种用于制造反射式隐藏镜面的间隙壁的制造方法，其特征在于其至少包含：形成一I型镜面结构；形成一间隙壁层于该I型镜面结构上；以及图案化该间隙壁层，以沿着该I型镜面结构的一侧形成至少一间隙壁。 | ||
| 地址 | 台湾省新竹科学工业园区新竹市力行六路8号 | ||