| 发明名称 | 在基片上制作带图形光学滤波层的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种在基片上至少制作一个光学滤层分段的方法，其中：在基片表面上制作包含抗蚀层的掩模；利用真空沉积法，在基片表面上沉积光学滤波层；从抗蚀层上去除有光学滤波层的抗蚀层；其中沉积光学滤波层至少发生在高于150℃的温度下，最好是在高于150℃至400℃的范围内。 | ||
| 申请公布号 | CN1721889A | 申请公布日期 | 2006.01.18 |
| 申请号 | CN200510084615.8 | 申请日期 | 2005.07.15 |
| 申请人 | 肖特股份公司 | 发明人 | 迪特·维特博格;托马斯·库帕;录兹·佐格;安德里·米尔坦斯 |
| 分类号 | G02B5/20(2006.01) | 主分类号 | G02B5/20(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 蒋世迅 |
| 主权项 | 1.一种在基片上至少制作一个光学滤波层分段的方法，其中-在基片表面上制作包含抗蚀层的掩模，-利用真空沉积法，在基片表面上沉积光学滤波层，和-从抗蚀层上去除有光学滤波层的抗蚀层，其中沉积光学滤波层至少发生在高于150℃的温度下，最好是在高于150℃直至400℃的范围内。 | ||
| 地址 | 德国美因茨 | ||