| 发明名称 | 曝光装置以及器件制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种在将液体充满于投影光学系统与基片之间来进行曝光之际，能够抑制起因于附着于基片的液体的器件的劣化的曝光装置。器件制造系统(SYS)具备：在投影光学系统(PL)与基片(P)之间用液体(50)充满，经由投影光学系统(PL)和液体(50)将图案像投影到基片(P)上的曝光装置本体(EX)；曝光装置本体(EX)与进行基片(P)曝光后的处理的涂敷器·显影器本体(C/D)的接口部(IF)；以及在基片(P)曝光后、经由接口部(IF)将基片(P)搬出至涂敷器·显影器本体(C/D)之前，除去附着于基片(P)的液体(50)的液体除去装置(100)。 | ||
| 申请公布号 | CN1723537A | 申请公布日期 | 2006.01.18 |
| 申请号 | CN200380105419.3 | 申请日期 | 2003.12.05 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 马込伸贵;高岩宏明;荒井大 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01);G03F7/20(2006.01) | 主分类号 | H01L21/027(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 曲瑞 |
| 主权项 | 1.一种经由液体将图案像转印到基片上并对基片进行曝光的曝光装置，具备：将图案像投影到基片的投影光学系统；与对已被曝光的基片进行处理的处理装置的连接部；以及在通过上述连接部将基片向处理装置搬出之前，除去附着于基片的液体的液体除去装置。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||