发明名称 | 发光装置及其制作方法 | ||
摘要 | 在发光装置中,最好发光元件的下部的膜表面具有平坦性。因此,在成膜后对于膜实施使膜平坦化等的处理。在本发明中,提出一种能够容易地进行上述平坦化的发光装置的结构。在第1膜上以与布线相同的层,制作第2膜。由此,在布线形成时,对第1膜中位于发光元件下部的部分进行蚀刻,能够防止在第1膜表面上形成凹凸。通过设置第2膜,第3膜的表面高度升高,从而能够实现局部的平坦化。 | ||
申请公布号 | CN1723482A | 申请公布日期 | 2006.01.18 |
申请号 | CN200380105306.3 | 申请日期 | 2003.11.27 |
申请人 | 株式会社半导体能源研究所 | 发明人 | 村上智史;宫城德子 |
分类号 | G09F9/30(2006.01) | 主分类号 | G09F9/30(2006.01) |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 杨凯;叶恺东 |
主权项 | 1.一种发光装置,其特征在于,设有:形成在第1膜上的布线;在所述第1膜上以与所述布线相同的层形成的第2膜;形成在所述第1膜的上方的第3膜;以及形成在所述第3膜上的发光元件的电极,其中,所述发光元件的电极形成为至少一部分与所述第2膜重叠,覆盖所述发光元件的电极的端部的第4膜的开口部,设置在所述发光元件的电极和第2膜的重叠部。 | ||
地址 | 日本神奈川县 |