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发明名称 MANUFACTURING PROCESS FOR PHOTOMASK
摘要
申请公布号 KR20060005862(A) 申请公布日期 2006.01.18
申请号 KR20040054849 申请日期 2004.07.14
申请人 HYNIX SEMICONDUCTOR INC. 发明人 LIM, MUN KI
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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