| 发明名称 | 液晶显示器件及其制造方法 | ||
| 摘要 | 一种制造液晶显示器件的方法，包括：利用第一掩模工艺在基板上形成栅极、选通汇流线和选通焊盘；在基板的整个表面上形成栅极绝缘层和有源层；在基板的整个表面上形成第一有机材料膜；除去部分第一有机材料膜，以暴露选通焊盘的第一部分；在基板的整个表面上淀积透明膜；利用第二半色调掩模对透明膜进行构图，以形成数据汇流线、源极、漏极、像素电极、沟道层、和欧姆接触层；利用第三掩模暴露部分数据焊盘和部分数据汇流线；在基板的整个表面上形成第二有机材料膜；在数据汇流线上淀积低电阻材料；在基板上涂覆钝化膜；利用移去工艺除去第二有机材料膜，以暴露选通焊盘的第二部分和数据焊盘的第一部分。 | ||
| 申请公布号 | CN1237373C | 申请公布日期 | 2006.01.18 |
| 申请号 | CN200310121211.2 | 申请日期 | 2003.12.15 |
| 申请人 | LG.飞利浦LCD有限公司 | 发明人 | 林柄昊 |
| 分类号 | G02F1/133(2006.01);G02F1/136(2006.01);H01L21/02(2006.01) | 主分类号 | G02F1/133(2006.01) |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 李辉 |
| 主权项 | 1.一种制造液晶显示器件的方法，包括步骤：利用第一掩模工艺在基板上形成栅极、选通汇流线和选通焊盘；在基板的整个表面上形成栅极绝缘层和有源层；在基板的整个表面上形成第一有机材料膜；除去部分第一有机材料膜以暴露选通焊盘的第一部分；在基板的整个表面上淀积透明膜；利用第二半色调掩模对透明膜进行构图，以形成数据汇流线、源极、漏极、像素电极、沟道层、和欧姆接触层；利用第三掩模暴露部分数据焊盘和部分数据汇流线；在基板的整个表面上形成第二有机材料膜；在数据汇流线上淀积低电阻材料；在基板上涂覆钝化膜；利用移去工艺除去第二有机材料膜，以暴露选通焊盘的第二部分和数据焊盘的第一部分。 | ||
| 地址 | 韩国首尔 | ||