| 发明名称 | 铁电体薄膜形成用溶液及铁电体薄膜形成方法 | ||
| 摘要 | 提供能够形成无涂布不匀(条痕)的均匀薄膜的铁电体薄膜形成用溶液及铁电体薄膜形成方法。还提供以含有选自改性硅油或者氟型表面活性剂中的至少一种为特征的铁电体薄膜形成用溶液及使用该溶液的铁电体薄膜形成方法。 | ||
| 申请公布号 | CN1237205C | 申请公布日期 | 2006.01.18 |
| 申请号 | CN00136258.5 | 申请日期 | 2000.12.18 |
| 申请人 | 日本电气株式会社;关东化学株式会社 | 发明人 | 长谷卓;宫坂洋一;新内聡畅;森冈洋;山手拓;桂木速人;森清人 |
| 分类号 | C23C18/12(2006.01);H01L21/285(2006.01) | 主分类号 | C23C18/12(2006.01) |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 过晓东 |
| 主权项 | 1、铁电体薄膜形成用溶液，该溶液是由构成铁电体薄膜的元素的有机金属化合物及伯醇和/或丙二醇一烷基醚调制的铁电体薄膜形成用溶液，还含有选自由在二甲基硅油中导入有机基团的改性硅油、非离子型氟型表面活性剂以及阴离子型氟型表面活性剂组成的组中的1种或者2种以上。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||