气化器和气化供给装置

摘要

本发明公开了一种气化器，其中与CVD材料接触的至少一部分CVD材料进料口由耐腐蚀性合成树脂构成；还公开了一种气化供给装置，其包括气化器和冷却器，其中气化器的CVD材料进料口的内侧和CVD材料进料口的气化室一侧的表面由耐腐蚀性合成树脂构成；与气化器外侧接触的进料口由金属构成；可以用冷却器冷却由金属构成的CVD材料进料口，该CVD材料进料口在加热气化室时经受来自加热装置的热传递。该气化器和装置当用于向生产半导体的CVD设备供应气态CVD材料时，能以所需的浓度和流速有效地气化和供应CVD材料，且即使在使用固体CVD材料的情况下也不会在CVD材料进料口引起CVD材料的沉积或粘合。

主权项

1.一种气化器，其包括用于CVD材料的气化室、用于向气化室供应CVD材料的CVD材料进料口、气化气体排放口和用于加热气化室的加热装置，其特征在于与CVD材料接触的至少一部分CVD材料进料口由耐腐蚀性合成树脂构成，其中CVD材料进料口装有这样的通道，其结构使得CVD材料和载体气体在CVD材料进料口内侧互相混合，然后将混合物供应到气化室；且其中CVD材料进料口的CVD材料通道由不锈钢制成，嵌入该CVD材料进料口并固定在其上。