聚亚醯胺层的形成方法、光敏性高分子层的形成方法、及具有该聚亚醯胺层的半导体晶片

摘要

本发明揭示一种聚亚醯胺(polyimide)层的形成方法、光敏性高分子层的形成方法、及具有该聚亚醯胺层的半导体晶片。至少经由下列步骤：提供一基板；于上述基板上形成一图形化的光敏性聚亚醯胺前驱物或光敏性高分子前驱物；以及对上述光敏性聚亚醯胺前驱物或光敏性高分子前驱物进行消泡处理；可以消除制程中在上述光敏性聚亚醯胺前驱物或光敏性高分子前驱物中所产生的气泡。