可选式双位置磁电管

摘要

兹提供一种可绕一溅镀靶材16后方之一中心轴60旋转的双位置磁电管50，其特别用于将一阻障材料之靶材的一边缘溅镀于一晶圆18上，并清洁再沉积于靶材中心处之材料。于靶材清洁期间，晶圆偏压会被降低。于一实施例中，一弧形磁电管130系支撑于一框转臂90，而该臂系框转于一固定至该旋转轴杆62之撑座82之一端。一弹簧96可偏压该枢转臂，以使该磁电管受迫移向该靶材中心上方。离祭力于增加转速时会克服核弹簧偏压，并将该磁电管转移至一外侧位置，使长磁电管尺寸段对齐靶材边缘。机械阻挡物100，102可避免于任一方向的过量移动。其他机构则包括线性滑动件180以及致动器208。