| 主权项 |
1.一种液晶显示器之滤色镜基板,其包含: 一片透明基板; 形成于基板上之滤色镜,其各自带有一切槽; 第一透明传导层覆盖于该等滤色镜上; 一个黑色矩阵形成于第一透明传导层上于各滤色 镜之切槽内部。 2.如申请专利范围第1项之滤色镜基板,其进一步包 含有机薄膜形成于黑色矩阵上同时填补各滤色镜 切槽。 3.如申请专利范围第2项之滤色镜基板,其中黑色矩 阵系形成为双层结构,此处存在有铬层及氧化铬层 。 4.如申请专利范围第1项之滤色镜基板,其进一步包 含感光膜形成于黑色矩阵上同时填补各滤色镜切 槽。 5.如申请专利范围第4项之滤色镜基板,其中黑色矩 阵系形成为双层结构,此处存在有铬层及氧化铬层 。 6.如申请专利范围第1项之滤色镜基板,其中黑色矩 阵系以有机材料形成,故黑色矩阵填补各滤色镜之 切槽。 7.如申请专利范围第6项之滤色镜基板,其进一步包 含第二透明传导层覆盖该感光膜。 8.如申请专利范围第1项之滤色镜基板,其中黑色矩 阵包含形成于毗邻滤色镜中间区之第一部份,以及 形成于各滤色镜内部区域同时将滤色镜划分成为 多个领域之第二部份。 9.一种液晶显示器之滤色镜基板,其包含: 一片透明基板; 多滤色镜,形成于基板上且各自带有一切槽; 一个黑色矩阵设置于各滤色镜之切槽内部;以及 一层透明传导层形成于黑色矩阵上。 10.如申请专利范围第9项之滤色镜基板,其进一步 包含有机薄膜形成于黑色矩阵上,故有机薄膜被透 明传导层覆盖同时填补各滤色镜切槽。 11.一种制造液晶显示器之滤色镜基板之方法,该方 法包含下列步骤: 形成滤色镜于一片透明基板上,让各滤色镜有一切 槽; 形成一层第一透明传导层于滤色镜上; 沉积一层黑色矩阵层于第一透明传导层上; 形成填隙料于黑色矩阵层上,故填隙料填补各滤色 镜之切槽;以及 经由蚀刻去除黑色矩阵层之暴露部份。 12.如申请专利范围第11项之方法,其中填隙料系经 由涂布有机薄膜于黑色矩阵层上以及灰化有机薄 膜形成。 13.如申请专利范围第11项之方法,其中填隙料系经 由涂布感光膜于黑色矩阵层上,将感光膜曝光,以 及显像曝光后之薄膜制成。 14.如申请专利范围第11项之方法,其中黑色矩阵层 系经由循序沉积铬层及氧化铬层于第一透明传导 层上形成。 15.如申请专利范围第11项之方法,其进一步包含形 成第二透明传导层故第二透明传导层覆盖填隙料 之步骤。 16.一种制造液晶显示器之滤色镜基板之方法,该方 法包含下列步骤: 形成多片滤色镜于一片透明基板上,让各滤色镜有 一切槽; 形成一层第一透明传导层于该等滤色镜上;以及 形成一个黑色矩阵于第一透明传导层上,故黑色矩 阵填补各滤色镜之切槽。 17.如申请专利范围第16项之方法,其进一步包含形 成第二透明传导层于黑色矩阵层上之步骤。 18.一种制造液晶显示器之滤色镜基板之方法,该方 法包含下列步骤: 形成多片滤色镜于一片透明基板上,让各滤色镜有 一切槽; 沉积一层黑色矩阵层于该等滤色镜上; 形成填隙料于黑色矩阵层上,故填隙料填补各滤色 镜之切槽; 经由蚀刻去除黑色矩阵层暴露部份;以及 形成一层透明传导层于填隙料上。 图式简单说明: 图1A至1D循序举例说明根据先前技艺之液晶显示器 中之滤色镜基板之制造步骤; 图2A至2F循序举例说明根据本发明之第一较佳具体 实施例之液晶显示器中之滤色镜基板之制造步骤; 图3A至3E循序举例说明根据本发明之第二较佳具体 实施例之液晶显示器中之滤色镜基板之制造步骤; 图4A至4F循序举例说明根据本发明之第三较佳具体 实施例之液晶显示器中之滤色镜基板之制造步骤; 图5A至5F循序举例说明根据本发明之第四较佳具体 实施例之液晶显示器中之滤色镜基板之制造步骤; 图6A至6B为剖面图显示根据本发明之较佳具体实施 例对液晶显示器之共用电极与像素电极施加电压 时液晶分子之定向状态; 图7A为根据本发明之第五较佳具体实施例之液晶 显示器之滤色镜基板之黑色矩阵之示意图; 图7B为根据本发明之第五较佳具体实施例之液晶 显示器之薄膜电晶体阵列基板之示意图; 图7C为液晶显示器之示意图,此处图7A所示滤色镜 基板与图7B所示薄膜电晶体阵列基板彼此组装; 图8A为根据本发明之第六较佳具体实施例之液晶 显示器之滤色镜基板之黑色矩阵之示意图; 图8B为根据本发明之第六较佳具体实施例之液晶 显示器之薄膜电晶体阵列基板之示意图;以及 图8C为液晶显示器之示意图,此处图8A所示滤色镜 基板与图8B所示薄膜电晶体阵列基板彼此组装; |
