| 主权项 |
1.一种导光板,其包括: 至少一入射面,系用以接收光束; 一出射面,与入射面相交系用以引导光束出射; 一底面,系与出射面相对; 其中,该底面分布复数凹坑,且该复数凹坑之散射 面构成一曲面,用以滙聚经凹坑散射后之光束,该 底面具有反射膜,用以防止光束自底面逸出。 2.如申请专利范围第1项所述之导光板,其中该凹坑 之散射面构成之曲面系部份圆柱面。 3.如申请专利范围第1项所述之导光板,其中该凹坑 之散射面构成之曲面系圆弧面。 4.如申请专利范围第1项所述之导光板,其中该凹坑 可为圆柱状、球状、圆台状、矩形状或立方体。 5.如申请专利范围第1项所述之导光板,其中该复数 凹坑系均匀分布于底面。 6.如申请专利范围第1项所述之导光板,其中该复数 凹坑之大小及密度系沿远离入射面之方向逐渐增 加。 7.如申请专利范围第1项所述之导光板,其中该反射 膜系由SiO2与TiO2交替形成之多层薄膜。 8.如申请专利范围第1项所述之导光板,其中该反射 膜于可见光区之反射率至少为98%。 9.如申请专利范围第1项所述之导光板,其中该导光 板为平板形或楔形导光板。 10.一种面光源系统,其包括: 至少一光源,系用以发出光束; 一导光板,包括: 至少一入射面,系用以接收光束; 一出射面,与入射面相交系用以引导光束出射; 一底面,系与出射面相对; 其中,该底面分布复数凹坑,且该复数凹坑之散射 面构成一曲面,用以滙聚经凹坑散射后之光束,该 底面具有反射膜,用以防止光束自底面逸出,该光 源系相对入射面设置。 11.如申请专利范围第10项所述之面光源系统,其中 该凹坑之散射面构成之曲面系部份圆柱面。 12.如申请专利范围第10项所述之面光源系统,其中 该凹坑之散射面构成之曲面系圆弧面。 13.如申请专利范围第10项所述之面光源系统,其中 该凹坑可为圆柱状、球状、圆台状、矩形状或立 方体。 14.如申请专利范围第10项所述之面光源系统,其中 该复计数凹坑系均匀分布于底面。 15.如申请专利范围第10项所述之面光源系统,其中 该复数凹坑之大小及密度系沿远离入射面之方向 逐渐增加。 16.如申请专利范围第10项所述之面光源系统,其中 该反射膜系由SiO2与TiO2交替形成之多层薄膜。 17.如申请专利范围第10项所述之面光源系统,其中 该反射膜于可见光区之反射率至少为98%。 18.如申请专利范围第10项所述之面光源系统,其中 该导光板为平板形或楔形导光板。 19.如申请专利范围第10项所述之面光源系统,其中 该光源可为线光源或点光源。 20.如申请专利范围第10项所述之面光源系统,其进 一步包括位于导光板出射面一侧之一扩散板及一 棱镜板。 图式简单说明: 第一图系习知技术面光源系统之剖视图。 第二图系本发明面光源系统第一实施例之立体图 。 第三图系第二图所示面光源系统之剖面图。 第四图系本发明面光源系统第二实施例之立体图 。 第五图系第四图所示面光源系统之剖面图。 第六图系本发明面光源系统第三实施例之立体图 。 第七图系第六图所示面光源系统之剖面图。 第八图系本发明面光源系统第四实施例之剖视图 。 第九图系本发明导光板一实施例之局部剖视图。 |
