| 主权项 |
1.一种修补图案之缺陷的方法,其包含有: 将一修补乾膜(repairing dry film)置放于该图案上,且 该修补乾膜覆盖该图案与该缺陷; 进行一转印制程,将位于该缺陷上之该修补乾膜转 印至该缺陷内;以及 移除未被转印至该缺陷内之该修补乾膜。 2.如申请专利范围第1项所述之方法,另包含于置放 该修补乾膜之前先利用一雷射光束将该图案之突 起缺陷去除,以形成该缺陷。 3.如申请专利范围第1项所述之方法,另包含有于进 行该转印制程之前先进行一预压制程,利用一压膜 机将该修补乾膜预压于该图案与该缺陷上。 4.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该转印制 程系利用一微热压膜头热压位于该缺陷上之该修 补乾膜,并将该修补乾膜转印至该缺陷中以修补该 缺陷。 5.如申请专利范围第4项所述之方法,其中该微热压 膜头之形状与尺寸系配合该缺陷之形状与尺寸。 6.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该转印制 程系利用一光束照射加热位于该缺陷上之该修补 乾膜,使位于该缺陷上之该修补乾膜转印至该缺陷 中以修补该缺陷。 7.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该修补乾 膜系包含有一基膜与一修补颜料层。 8.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该图案系 为一光罩图案。 9.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该图案系 为一滤光图案。 10.如申请专利范围第9项所述之方法,其中该滤光 图案系为一红色滤光(red color filter)图案,且该修补 乾膜系为一红色修补乾膜。 11.如申请专利范围第9项所述之方法,其中该滤光 图案系为一绿色滤光(green color filter)图案,且该修 补乾膜系为一绿色修补乾膜。 12.如申请专利范围第9项所述之方法,其中该滤光 图案系为一蓝色滤光图案(blue color filter),且该修 补乾膜系为一蓝色修补乾膜。 13.如申请专利范围第9项所述之方法,其中该滤光 图案系为一黑色滤光(black matrix)图案,且该修补乾 膜系为一黑色修补乾膜。 14.一种修补滤光图案之突起缺陷(tokki defect)的方 法,其包含有: 利用一雷射光束去除该突起缺陷,使该滤光图案形 成一缺口; 将一修补乾膜(repairing dry film)置放于该滤光图案 上,且该修补乾膜覆盖该滤光图案与该缺口; 进行一转印制程,将位于该缺口上之该修补乾膜转 印至该缺口内;以及 移除未被转印至该缺口内之该修补乾膜。 15.如申请专利范围第14项所述之方法,另包含有于 进行该转印制程之前先进行一预压制程,利用一压 膜机将该修补乾膜预压于该滤光图案与该缺口上 。 16.如申请专利范围第14项所述之方法,其中该转印 制程系利用一微热压膜头热压位于该缺口上之该 修补乾膜,并将该修补乾膜转印至该缺口中以修补 该缺口。 17.如申请专利范围第16项所述之方法,其中该微热 压膜头之形状与尺寸系配合该缺口之形状与尺寸 。 18.如申请专利范围第14项所述之方法,其中该转印 制程系利用一光束照射加热位于该缺口上之该修 补乾膜,使位于该缺口上之该修补乾膜转印至该缺 口内以修补该缺口。 19.如申请专利范围第14项所述之方法,其中该修补 乾膜系包含有一基膜与一修补颜料层。 20.如申请专利范围第14项所述之方法,其中该滤光 图案系为一红色滤光(red color filter)图案,且该修补 乾膜系为一红色修补乾膜。 21.如申请专利范围第14项所述之方法,其中该滤光 图案系为一绿色滤光(green color filter)图案,且该修 补乾膜系为一绿色修补乾膜。 22.如申请专利范围第14项所述之方法,其中该滤光 图案系为一蓝色滤光图案(blue color filter),且该修 补乾膜系为一蓝色修补乾膜。 23.如申请专利范围第14项所述之方法,其中该滤光 图案系为一黑色滤光(black matrix)图案,且该修补乾 膜系为一黑色修补乾膜。 24.一种修补光罩图案之缺陷的方法,该光罩系具有 由一透光材质所构成之一主体,并在该主体上利用 一遮光材质形成一不透光区,而该不透光区中更具 有因该不透光区受损而暴露出的一透光区缺陷,该 方法包含有: 将一修补乾膜(repairing dry film)置放于该光罩图案 上,且该修补乾膜覆盖该光罩图案与该透光区缺陷 ; 进行一转印制程,将位于该透光区缺陷上之该修补 乾膜转印至该透光区缺陷内;以及 移除未被转印至该透光区缺陷内之该修补乾膜。 25.如申请专利范围第24项所述之方法,另包含于置 放该修补乾膜之前先利用一雷射光束将该光罩图 案之突起缺陷去除,以形成该透光区缺陷。 26.如申请专利范围第24项所述之方法,另包含有于 进行该转印制程之前先进行一预压制程,利用一压 膜机将该 修补乾膜预压于该光罩图案与该透光区 缺陷上。 27.如申请专利范围第24项所述之方法,其中该转印 制程系利用一微热压膜头热压位于该透光区缺陷 上之该修补乾膜,并将该修补乾膜转印至该透光区 缺陷中以修补该缺陷。 28.如申请专利范围第27项所述之方法,其中该微热 压膜头之形状与尺寸系配合该透光区缺陷之形状 与尺寸。 29.如申请专利范围第24项所述之方法,其中该转印 制程系利用一光束照射加热位于该透光区缺陷上 之该修补乾膜,使位于该透光区缺陷上之该修补乾 膜转印至该透光区缺陷中以修补该透光区缺陷。 30.如申请专利范围第24项所述之方法,其中该修补 乾膜系包含有一基膜与一修补颜料层。 31.如申请专利范围第24项所述之方法,其中该修补 乾膜系为一黑色修补乾膜。 图式简单说明: 第1图以及第2图为习知利用研磨方式修补滤光图 案之方法示意图。 第3图至第5图为习知利用注射墨水方式修补滤光 图案之方法示意图。 第6至第9图为本发明之一较佳实施例修补滤光图 案之缺陷的方法示意图。 第10至第11图为本发明另一较佳实施例之修补滤光 图案之缺陷的方法示意图。 第12图为本发明光罩图案之缺陷示意图。 |
