发明名称 |
材料去除方法、基体材料再生方法及显示器件制造方法 |
摘要 |
本发明的课题是,提供能够有效地再利用在被间壁划分的区域中导入显示要素的显示材料的方法,以及采用该方法的显示器件制造方法。在本体再生工序中,如图2(b)所示,将图2(a)所示的滤色片基板浸渍在显影液E中。作为该显影液E,使用可在形成上述间壁6的显影处理中使用的上述显影液,特别是上述碱性溶液。该显影液E也可以不是用于形成上述间壁的显影液本身。在向该显影液E中浸渍的工序中,借助于利用超声波清洗槽对作为显示要素的滤色元3施加振动或应力,如图2(c)所示,剥离作为显示要素的滤色元3。其后,如图2(d)所示,进行水洗,如图2(e)所示,进行干燥,返回到滤色片基板的形成工序。 |
申请公布号 |
CN1236362C |
申请公布日期 |
2006.01.11 |
申请号 |
CN03120121.0 |
申请日期 |
2003.03.07 |
申请人 |
精工爱普生株式会社 |
发明人 |
川濑智己;伊藤达也;片上悟 |
分类号 |
G03F7/26(2006.01);G03F7/00(2006.01);G02B5/23(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/26(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
刘宗杰;王忠忠 |
主权项 |
1.一种材料去除方法,去除掉在由通过对放射线感应性材料进行放射线辐射处理和显影处理而形成于基体材料上的间壁所划分的区域中配置的材料,其特征在于:将上述间壁留在上述基体材料上,而将在上述所划分的区域中配置的材料,通过由可用于上述显影处理的显影物质剥离或溶解而去除掉。 |
地址 |
日本东京都 |