| 发明名称 | 光学反射镜用致密碳化硅涂层的制备方法 | ||
| 摘要 | 一种光学反射镜用致密碳化硅涂层的制备方法，是以三氯甲基硅烷为先驱体，采用化学气相沉积方法制备光学反射镜用致密碳化硅涂层。采用本发明的制备方法制备的SiC陶瓷涂层，具有优异的光学可加工性能，材料密度达3.204g/cm<SUP>3</SUP>，孔隙率小于0.2％。经过光学加工后，表面粗糙度小于1nm(最小可达0.372nm)，适合用于光学反射镜反射层。 | ||
| 申请公布号 | CN1719285A | 申请公布日期 | 2006.01.11 |
| 申请号 | CN200510031775.6 | 申请日期 | 2005.06.29 |
| 申请人 | 中国人民解放军国防科学技术大学 | 发明人 | 张长瑞;周新贵;曹英斌;刘荣军;王思青;胡海峰 |
| 分类号 | G02B5/08(2006.01);G02B1/10(2006.01);G02B26/08(2006.01) | 主分类号 | G02B5/08(2006.01) |
| 代理机构 | 湖南兆弘专利事务所 | 代理人 | 赵洪 |
| 主权项 | 1、一种光学反射镜用致密碳化硅涂层的制备方法，其特征在于以三氯甲基硅烷为先驱体，采用化学气相沉积方法制备光学反射镜用致密碳化硅涂层。 | ||
| 地址 | 410073湖南省长沙市砚瓦池正街47号国防科学技术大学航天与材料工程学院国防科技重点实验室 | ||