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发明名称
Method for fabricating gate of semiconductor device
摘要
申请公布号
KR100540334(B1)
申请公布日期
2006.01.11
申请号
KR20030101522
申请日期
2003.12.31
申请人
发明人
分类号
H01L21/28;H01L21/336;H01L21/8234;H01L27/07;H01L27/088;H01L29/423;H01L29/49;H01L29/78
主分类号
H01L21/28
代理机构
代理人
主权项
地址
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