发明名称 Method for fabricating gate of semiconductor device
摘要
申请公布号 KR100540334(B1) 申请公布日期 2006.01.11
申请号 KR20030101522 申请日期 2003.12.31
申请人 发明人
分类号 H01L21/28;H01L21/336;H01L21/8234;H01L27/07;H01L27/088;H01L29/423;H01L29/49;H01L29/78 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人
主权项
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