| 发明名称 | 将青蒿素转变为青蒿琥珀酸酯的单反应器法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种由青蒿素来制备青蒿琥珀酸酯的单反应器法，该方法包括在室温下将青蒿素还原，然后再将还原产物酯化。 | ||
| 申请公布号 | CN1720247A | 申请公布日期 | 2006.01.11 |
| 申请号 | CN02830147.1 | 申请日期 | 2002.12.02 |
| 申请人 | 科学和工业研究委员会 | 发明人 | 拉金德拉·辛格·巴库尼;阿图尔·普拉卡什·考霍尔;塔伦·辛格;苏曼·普里特·辛格·哈努扎 |
| 分类号 | C07D493/20(2006.01) | 主分类号 | C07D493/20(2006.01) |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 丁香兰 |
| 主权项 | 1.一种由青蒿素来制备青蒿琥珀酸酯的单反应器法，所述方法包括如下步骤：(a)在20℃～35℃的温度范围内，将青蒿素溶于溶剂中以得到溶液，向该溶液中加入催化剂；(b)将还原剂加入到步骤(a)所述的溶液中，在20℃～35℃的温度范围内将该混合物搅拌约0.5小时～4小时，以得到还原产物二氢青蒿素；(c)在20℃～35℃的温度范围内，将琥珀酸酐和碱加入到步骤(b)所述的混合物中；(d)在20℃～35℃的温度范围内，将步骤(c)所得的混合物搅拌1小时～3小时；(e)将冷水加入到步骤(d)所述的混合物中，并将该溶液的pH值调节到5～7，再用乙酸乙酯和正己烷的混合物萃取pH值为5～7的所述溶液，分离出有机层；(f)用水洗涤步骤(e)所述的有机层，用无水硫酸钠干燥经洗涤的有机层，过滤，蒸发所述有机层以得到残余物；和(g)用硅胶柱色谱对步骤(f)所述的残余物进行纯化，以得到纯的青蒿琥珀酸酯。 | ||
| 地址 | 印度新德里 | ||