抛光垫整修器及其制造和循环使用方法

摘要

本发明提供了一种循环使用的抛光垫整修器，其包括基板和从其原结构位置翻转的研磨盘。翻转的研磨盘包括一暴露的研磨面，该研磨盘包括含有研磨颗粒的一未用过的研磨表面。研磨盘的结合面固定到基板上，结合面包括曾被用来整修抛光垫的用过的研磨面。本发明还提供了一种垫整修器，其具有研磨面，该面含有研磨颗粒的暴露部分，其中至少约60％的研磨颗粒的晶体结构具有基本相同的晶体对称性。

主权项

1.一种循环使用的抛光垫整修器，包括：(a)一基板；和(b)一翻转的研磨盘，所述研磨盘包括：(i)一暴露的研磨面，其具有未用过的研磨表面，该研磨表面上带有研磨颗粒；和(ii)一固定到所述基板的结合面，该结合面包括曾用于整修抛光垫的一用过的研磨面。