| 发明名称 | 场发射显示器的阴极结构制作方法 | ||
| 摘要 | 一种场发射显示器的阴极结构制作方法，采用厚膜技术，利用低成本的银质油墨及纳米碳管材料在基板上形成第一、二电极层，再通过烧结技术对银质油墨进行烧结，在烧结步骤完成后，利用表面研磨处理技术对该由低成本银质油墨及纳米碳管材料制作的第一、二电极层表面进行研磨，研磨后的厚度误差可控制在0.1μm以下，使第一、二电极层表面的平坦度得到提高。 | ||
| 申请公布号 | CN1719953A | 申请公布日期 | 2006.01.11 |
| 申请号 | CN200410062653.9 | 申请日期 | 2004.07.08 |
| 申请人 | 东元奈米应材股份有限公司 | 发明人 | 许瑞庭;郑奎文;萧俊彦 |
| 分类号 | H05B33/10(2006.01);H05B33/26(2006.01);H05B33/22(2006.01) | 主分类号 | H05B33/10(2006.01) |
| 代理机构 | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 余朦;方挺 |
| 主权项 | 1.一种场发射显示器的阴极结构制作方法，其特征在于，所述阴极结构制作方法包括以下步骤：a)先取一基板；b)利用厚膜技术在所述基板表面上形成第一、二电极层；c)待所述述第一、二电极层制作完成后，对其进行烧结；d)待所述烧结步骤完成后，利用表面研磨技术，对所述第一、二电极层表面进行研磨，形成场发射显示器的阴极结构。 | ||
| 地址 | 中国台湾 | ||