一种对靶孪生磁控溅射离子镀沉积装置

摘要

本发明公开了一种对靶孪生磁控溅射离子镀沉积装置，包括真空室，真空室设有抽真空口，真空室内设有磁控靶和工件架，磁控靶呈对靶设置，每对磁控靶由一个中频电源供电，工件架位于对靶之间。本发明由于采用上述结构，每对磁控靶由一个中频电源供电，使得对靶之间等离子体分布均匀、致密，从而提高镀膜效率、镀膜能力和离子镀效果，降低镀膜成本，提高涂层均匀性，同时，由一个电源控制一对靶，使得镀膜过程更易于控制。

主权项

1.一种对靶孪生磁控溅射离子镀沉积装置，包括真空室，真空室设有抽真空口，真空室内设有磁控靶和工件架及支撑工件架的支座，其特征在于：磁控靶呈对靶设置，每对磁控靶由一个中频电源供电，工件架位于对靶之间。