发明名称 Method for forming isolation layer of semiconductor device
摘要
申请公布号 KR100541680(B1) 申请公布日期 2006.01.11
申请号 KR20030085795 申请日期 2003.11.28
申请人 发明人
分类号 H01L21/762 主分类号 H01L21/762
代理机构 代理人
主权项
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