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发明名称 VACUUM PLASMA SPUTTERING APPARATUS
摘要
申请公布号 KR20060002587(A) 申请公布日期 2006.01.09
申请号 KR20040051691 申请日期 2004.07.02
申请人 KOREA ATOMIC ENERGY RESEARCH INSTITUTE;KOREA HYDRO & NUCLEAR POWER CO., LTD. 发明人 CHO, SANG JIN;LEE, CHANG HEE;KIM, YOUNG JIN;KANG, HEE YOUNG
分类号 H01L21/203 主分类号 H01L21/203
代理机构 代理人
主权项
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