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经营范围
发明名称
MANUFACTURING METHOD FOR PHOTOMASK
摘要
申请公布号
KR20060002228(A)
申请公布日期
2006.01.09
申请号
KR20040051173
申请日期
2004.07.01
申请人
HYNIX SEMICONDUCTOR INC.
发明人
JUNG, HO YONG;CHOI, BO KYOUNG
分类号
H01L21/027
主分类号
H01L21/027
代理机构
代理人
主权项
地址
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