发明名称 |
Optisches Element, Projektionsobjektiv und Mikrolithographic-Projektionsbelichtungsanlage mit Fluoridkristall-Linsen |
摘要 |
Projektionsobjektiv für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit einer Mehrzahl von Linsen, wobei mindestens eine Linse aus einem Fluorid-Kristall besteht. Diese Linse ist eine (100)-Linse mit einer Linsenachse, welche annähernd senkrecht auf den {100}-Kristallebenen oder auf den dazu äquivalenten Kristallebenen des Fluorid-Kristalls steht. Zur Reduzierung der Werte der Doppelbrechungsverteilung werden (100)-Linsen einer Gruppe gegeneinander verdreht. Dieses Verfahren ist auch auf (111)-Linsen anwendbar, deren Linsenachsen annähernd senkrecht auf den {111}-Kristallebenen oder auf den dazu äquivalenten Kristallebenen des Fluorid-Kristalls stehen. Eine weitere Reduzierung des störenden Einflusses der Doppelbrechung erzielt man durch den gleichzeitigen Einsatz von Gruppen mit gegeneinander verdrehten (100)-Linsen und Gruppen mit gegeneinander verdrehten (111)-Linsen.
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申请公布号 |
DE10125487(A9) |
申请公布日期 |
2006.01.05 |
申请号 |
DE20011025487 |
申请日期 |
2001.05.23 |
申请人 |
CARL ZEISS SMT AG |
发明人 |
BRUNOTTE, MARTIN;KAISER, WINFRIED;GERHARD, MICHAEL;MAUL, MANFRED;WAGNER, CHRISTIAN;KRAEHMER, DANIEL;ULRICH, WILHELM;ENKISCH, BIRGIT |
分类号 |
G02B1/02;G02B5/30;G03F7/20 |
主分类号 |
G02B1/02 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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