发明名称 无电镀敷法、磁性记录介质和磁性记录器件
摘要 本发明的一个目的是提供无电镀敷方法,该方法在表面粗糙度小的玻璃基材上形成良好粘着性镀膜。还提供采用这种无电镀敷方法制成的磁性记录介质及包括这样磁性记录介质的磁性记录器件。该方法包括:除去玻璃基材表面上过量碱金属步骤,包括将玻璃基材浸在含锂盐溶液中;腐蚀处理步骤,用含氢氟酸,氟化铵,盐酸,或它们的混合物的溶液,处理除去了过量碱金属的玻璃基材的表面;在经腐蚀处理的玻璃基材上形成粘着层步骤,将基材浸在氨基型或巯基型的硅烷偶联剂水溶液中;形成催化剂层步骤,在基材的粘着层上用氯化钯或钯形成催化剂层;无电镀敷步骤,在催化剂层上形成无电镀膜。
申请公布号 CN1716391A 申请公布日期 2006.01.04
申请号 CN200510078523.9 申请日期 2005.06.10
申请人 富士电机电子设备技术株式会社 发明人 磯亜紀良;鄭用一;樋口和人
分类号 G11B5/84(2006.01);G11B5/858(2006.01);C23C18/16(2006.01);C03C15/00(2006.01) 主分类号 G11B5/84(2006.01)
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 代理人 周承泽
主权项 1.一种在玻璃基材上进行无电镀敷的方法,包括下列步骤:除去玻璃基材表面上过量碱金属的除去碱金属步骤,该步骤包括将玻璃基材浸在含锂盐的溶液中;腐蚀处理步骤,包括用含氢氟酸,氟化铵,盐酸,或它们的两种或多种的混合物的溶液,处理在除去碱金属步骤中已除去过量碱金属的玻璃基材的表面;形成粘着层的步骤,在腐蚀处理后的玻璃基材上形成粘着层,包括将玻璃基材浸在氨基型硅烷偶联剂或巯基型硅烷偶联剂的水溶液中;形成催化剂层的步骤,在粘着层形成步骤后的玻璃基材的粘着层上用氯化钯或钯形成催化剂层;无电镀敷步骤,在玻璃基材上形成了的催化剂层上形成无电镀膜。
地址 日本东京
您可能感兴趣的专利