发明名称 |
镀膜设备 |
摘要 |
一种镀膜设备,包括一动力单元、一传动机构、一监控机构、一基板承载机构及一镀膜源。其中,动力单元具有一旋转轴心;传动机构包括一第一齿轮及一第二齿轮,且第一齿轮轴设于旋转轴心,第二齿轮与第一齿轮相啮合,第二齿轮的具有一第一开口;监控机构具有至少两个测试组件;基板承载机构连设于第二齿轮且具有一第二开口,第二开口与第一开口相对而设,监控机构穿设于第一开口及第二开口中;镀膜源与基板承载机构及测试组件相对而设。 |
申请公布号 |
CN1234906C |
申请公布日期 |
2006.01.04 |
申请号 |
CN03109599.2 |
申请日期 |
2003.04.11 |
申请人 |
精碟科技股份有限公司 |
发明人 |
徐振源;廖为松;谢治洪 |
分类号 |
C23C14/52(2006.01);C23C14/54(2006.01) |
主分类号 |
C23C14/52(2006.01) |
代理机构 |
北京纪凯知识产权代理有限公司 |
代理人 |
戈泊;程伟 |
主权项 |
1.一种镀膜设备,其特征在于包含:一动力单元,其具有一旋转轴心;一传动机构,其包含一第一齿轮及一第二齿轮,该第一齿轮轴设于该旋转轴心,该第二齿轮与该第一齿轮相啮合,该第二齿轮的中央具有一第一开口;一监控机构,其具有至少两个测试组件,且该监控机构穿设于该第一开口;一基板承载机构,其连设于该第二齿轮且具有一第二开口,该第二开口与该第一开口相对而设,该监控机构穿设于该第二开口;以及一镀膜源,其与该基板承载机构及这些测试组件相对而设,其中这些测试组件与该镀膜源的相对位置,与该基板承载机构所承载的基板与该镀膜源的相对位置相近似。 |
地址 |
台湾省台北县 |