发明名称 |
使用超高耐热性正型感光组合物的图案形成方法 |
摘要 |
在对于光致抗蚀图案需要高耐热性的工艺中,如制备TFT活性基质基板工艺中,通过使用正型感光组合物可形成一种超高耐热性的正型图案。本发明的图案形成方法包括以下步骤:涂敷一种感光组合物到基板材料之上以形成感光层的步骤,该感光组合物含有(a)碱溶性树脂、(b)具有醌二叠氮基的感光剂、(c)光酸产生剂、(d)交联剂和(e)溶剂;接着透过掩模使基板曝光的步骤;通过显影除去曝光区域以形成正型图像的步骤;使该正型图像的整个区域曝光的步骤;和(如果需要)后烘焙处理。对于使用1,2-萘醌-4-磺酰化合物作为具有醌二叠氮基的感光剂的情形,以上成分(c)可以省略,这是由于该化合物还充当着成分(c)光酸产生剂的作用。 |
申请公布号 |
CN1717626A |
申请公布日期 |
2006.01.04 |
申请号 |
CN200380104283.4 |
申请日期 |
2003.11.14 |
申请人 |
AZ电子材料(日本)株式会社 |
发明人 |
井川昭彦;山本敦子 |
分类号 |
G03F7/004(2006.01);G03F7/022(2006.01);G03F7/20(2006.01);G03F7/40(2006.01);G03F1/08(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/004(2006.01) |
代理机构 |
北京三幸商标专利事务所 |
代理人 |
刘激扬 |
主权项 |
1.一种图案形成方法,其特征在于它包括以下步骤:[1]涂敷一种感光组合物到基板材料之上以形成感光层的步骤,该感光组合物含有(a)碱溶性树脂、(b)具有醌二叠氮基的感光剂、(c)光酸产生剂、(d)交联剂和(e)溶剂,[2]透过掩模使该感光层曝光的步骤,[3]通过显影除去所述曝光区域以形成正型图像的步骤,和[4]使该正型图像的整个区域曝光的步骤。 |
地址 |
日本国东京都 |